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X光光電子能譜儀 (XPS/ESCA)

在半導體、LED、印刷電路板及面板產(chǎn)業(yè)中，表面元素分析在產(chǎn)品開(kāi)發(fā)與產(chǎn)線(xiàn)監控上，扮演重要角色。在各項表面分析設備中，XPS (X光光電子能譜儀, 亦稱(chēng) ESCA)廣為業(yè)界應用，主要原因來(lái)自于，XPS能同時(shí)得到材料表面元素分布及化學(xué)鍵結等信息，且不受樣品導電性的限制。 
XPS分析原理
    XPS原理簡(jiǎn)單說(shuō)就是光電效應，藉由X光光電子能譜分析材料表面各種元素之化學(xué)狀態(tài)。當X光由材料表面入射進(jìn)入內部時(shí)，X光會(huì )將原子內之**電子或鍵結電子激發(fā)至激態(tài)，靠近材料表面之高能態(tài)電子將有機會(huì )逃離材料表面，這些逃離材料表面之電子即稱(chēng)為X光光電子。分析被激發(fā)出的光電子能量可得到組成元素種類(lèi)，更可以得知其化學(xué)訊息，判斷化學(xué)態(tài)。 
iST服務(wù)范疇
    iST宜特科技特高階XPS – Quantera II掃描式X光光電子能譜儀，相較傳統XPS特小*能達到50微米的微區分析能力，宜特Quantera II特小可達7.5微米，能針對樣品表面更細微的結構進(jìn)行分析，滿(mǎn)足業(yè)界所需。 

此外，傳統XPS是用光學(xué)方式進(jìn)行定位，在微區選擇分析上往往會(huì )因為放大倍率的不足而影響微區選擇的準確性，造成其分析結果無(wú)法判讀(分析結果非正確來(lái)自于目標微區)。而Quantera II在樣品定位上除了傳統的光學(xué)影像外，還可透過(guò)聚焦X-ray的方式來(lái)得到更高倍率的SXI二次電子影像 (Scanning X-ray Induced secondary electron image, 成像原理與SEM雷同)，**提高微區選擇分析的準確性，分析能力大為躍進(jìn)。

機臺規格：

•  廠(chǎng)牌及型號：PHI QuanteraII    

•  X射線(xiàn)束特小直徑：7.5um

•  能量分辨率：0.48 eV (Ag3d5/2)

•  試片定位：SPS光學(xué)及SXI成像

•  試片大?。?lt;75mm 

XPS 主要功能 

•  表面分析(Surface survey) : 樣品表面75A以?xún)鹊某煞莘治觥?/p>

•  表面化學(xué)組態(tài)分析 (Narrow scan) : 樣品表面75A以?xún)鹊脑鼗瘜W(xué)組態(tài)鍵結分析。

•  縱深分析 (Depth Profile) : 藉由Ar 離子濺蝕樣品的表面，得到不同深度的元素訊號之縱深分布。

•  圖譜分析(Mapping) : 分析樣品區域元素訊號，得到區域元素分布影像圖。

•  線(xiàn)掃描(Line scan): 分析樣品直線(xiàn)上的元素訊號，得到直線(xiàn)元素分布圖。 

XPS 分析應用 

•  樣品氧化狀況(氧化層厚度及氧化態(tài))分析。

•  多層薄膜的縱深成分分析。

•  表面組成分析。

•  表面污染/變色之成份分析。

關(guān)于宜特：

iST始創(chuàng )于1994年的中國臺灣，主要以提供集成電路行業(yè)可靠性驗證、失效分析、材料分析、無(wú)線(xiàn)認證等技術(shù)服務(wù)。2002年進(jìn)駐上海，全球現已有7座實(shí)驗室12個(gè)服務(wù)據點(diǎn)，目前已然成為深具影響力之芯片驗證第三方實(shí)驗室。

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