昆山伍征新能源告訴你硅片回收該如何清洗！
對于硅片回收的公司來(lái)講，回收只是他們的一種說(shuō)法，并不是他們***的目的，回收來(lái)的硅片是要經(jīng)過(guò)再加工清洗而利用。這才是硅片回收公司存在的**終目的和意義，那么硅片回收來(lái)是怎么處理清洗再加工的呢?
一、物理清洗 物理清洗有三種方法。①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達幾百個(gè)大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產(chǎn)生劃痕和損傷。但高壓噴射會(huì )產(chǎn)生靜電作用，靠調節噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于 1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。
二、化學(xué)清洗 化學(xué)清洗是為了除去原子、離子不可見(jiàn)的污染,方法較多,有溶劑萃取、酸洗(**、硝酸、王水、各種混合酸等)和等離子體法等。其中雙氧水體系清洗方法效果好，環(huán)境污染小。一般方法是將硅片先用成分比為H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的強氧化性,將有機物分解而除去;用超純水沖洗后,再用成分比為H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的堿性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的絡(luò )合作用，許多金屬離子形成穩定的可溶性絡(luò )合物而溶于水;然后使用成分比為H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和鹽酸的溶解，以及氯離子的絡(luò )合性，許多金屬生成溶于水的絡(luò )離子，從而達到清洗的目的。
所以硅片回收不僅對很多商家帶來(lái)商機，也是一種對環(huán)境資源的保護，應該是一個(gè)發(fā)展前途很好的行業(yè)。
