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雙束聚焦離子束樣品制備(Dual-beam FIB)：
iST宜特建置業(yè)界相當高階FEI Helios 450S機臺及FEI Helios 600機臺，采三班制24小時(shí)運作，提供客戶(hù)快速交期的高質(zhì)量服務(wù)。
Dual-beam FIB機臺能在以離子束切割樣品時(shí)，同時(shí)用電子束對斷面進(jìn)行觀(guān)察。宜特所建置的業(yè)界相當高階機臺，具備超高分辨率的離子束及電子束。能針對樣品中的微細結構進(jìn)行奈米尺度的定位及觀(guān)察，大幅提升失效分析及TEM樣品制備的成功率與影像質(zhì)量。
雙束型聚焦離子束顯微鏡的應用，主要以下列所述為主：
半導體組件故障分析(能力可達20nm高階制程)
半導體生產(chǎn)線(xiàn)制程異常分析
磊晶與薄膜結構分析
電位對比測試
穿透式電子顯微鏡試片制作
奈米級結構制作
關(guān)于宜特：
iST始創(chuàng )于1994年的中國臺灣，主要以提供集成電路行業(yè)可靠性驗證、材料分析、失效分析、無(wú)線(xiàn)認證等技術(shù)服務(wù)。2002年進(jìn)駐上海，全球現已有7座實(shí)驗室12個(gè)服務(wù)據點(diǎn)。目前已然成為深具影響力之芯片驗證第三方實(shí)驗室。
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雙束聚焦離子束樣品制備(Dual-beam FIB)
