高純水設備簡(jiǎn)介： 我公司的高純水設備是由雙級反滲透裝置+EDI超純水裝置制取的高純水設備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM超純水。因此***用于微電子工業(yè)，半導體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制*行業(yè)和實(shí)驗室。也可以作為制*蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠(chǎng)的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。 一、高純水制取設備簡(jiǎn)介 　　高（超）純水制取設備提供生產(chǎn)半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)用超純水系統。產(chǎn)水水質(zhì)可達比較高可達18.3兆歐，符合電子行業(yè)生產(chǎn)所需超純水水質(zhì)要求。我公司曾為國內外多家**電子工業(yè)廠(chǎng)家及制*企業(yè)制作工業(yè)超純水設備。 　　 二、高純水制取設備推薦工藝流程 　　 　　1、預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－0.2或0.5?μ?m精密過(guò)濾器－用水點(diǎn) 　　2、預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－精制混床－0.2或0.5?μ?m精密過(guò)濾器－用水點(diǎn) 　　 三、高（超）純水工藝系統簡(jiǎn)述 為滿(mǎn)足用戶(hù)需要，達到符合標準的水質(zhì)，盡可能地減少各級的污染，在工藝設計上，取達**自來(lái)水標準的水為源水，再設有介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，精密過(guò)濾器等預處理系統、雙級RO反滲透主機系統、EDI或離子交換混床系統等。 　　1、介質(zhì)過(guò)濾器主要作用是去除源水中的懸浮物質(zhì)及機械雜質(zhì)設備由質(zhì)量不銹鋼材料制作而成。體內裝有布水帽、精制石英砂等，亦可裝其它填料。合理的石英砂裝填比例及良好的布水系統，使系統的產(chǎn)水水質(zhì)更加穩定。另外設備還設有氣體沖刷功能，能比較大限度地***介質(zhì)上及床層中的污垢，提高出水水質(zhì)和延長(cháng)工作周期。 　　2、活性碳過(guò)濾器具有除臭、去色、除油、吸附有機物雜質(zhì)等作用,能很大程度的去除水中的游離余氯，保證反滲透膜的進(jìn)水水質(zhì)，設備由質(zhì)量不銹鋼材料制成。 　　3、RO主機系統引進(jìn)**上**的反滲透技術(shù)，利用壓力差原理，能有效地去除水中的鹽類(lèi)，脫鹽率可達到99％左右。 　4、?EDI(電除鹽系統）工作原理 ??????高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導體制造業(yè)和制*業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。 ???????然而，膜系統和膜處理過(guò)程作為預處理過(guò)程或離子交換系統的替代品越來(lái)越流行。如電除鹽過(guò)程（EDI）之類(lèi)的膜系統可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續工作。 ??????而且，膜處理過(guò)程在機械上比離子交換系統簡(jiǎn)單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。 ??????EDI處理過(guò)程是膜處理過(guò)程中增長(cháng)**快的業(yè)務(wù)之一。EDI是帶有特殊水槽的非反向電滲析（ED），這個(gè)水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹(shù)脂。 ??????EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。通常水源是由反滲透（RO）產(chǎn)生。 ????? 超純水水質(zhì)：水質(zhì)符合美國ASTM標準，電子部超純水水質(zhì)標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級） 高純水制取設備應用范圍：半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；超純材料和超純化學(xué)試劑；實(shí)驗室和中試車(chē)間；汽車(chē)家電表面拋光處理醫*行業(yè)用水；其他高科技精微產(chǎn)品。